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GMP在氣流磨處理

山東埃爾派 | 點擊量(liang):0次 | 2020-01-28  

摘要
多年來,隨著市場需求的變化,我們的專業知識也隨之改變;我們已經接受了更多涉及藥品的技術工作。噴射式磨粉機在干粉加工中實現了最好的粉碎。粒度分布窄,通常在0.5至44微米的范

  多年來,隨著市場需求的變化,我們的專業知識也隨之改變;我們已經接受了更多涉及藥品的技術工作。噴射式磨粉機在干(gan)粉加工(gong)(gong)中實現(xian)了最好的(de)粉碎(sui)。粒(li)度(du)分布窄,通常在0.5至44微(wei)米的(de)范圍(wei)內(nei),并且(qie)粉碎(sui)機(ji)加工(gong)(gong)少(shao)至1克材料。它們還可以保持產(chan)品純(chun)度(du),并且(qie)不(bu)會因(yin)磨損而產(chan)生熱量。這(zhe)就是使(shi)這(zhe)項技術對制藥(yao)業特(te)別感興趣(qu)的(de)原因(yin)。“

  GMP法規(gui)意味著什么?

  •FDA制(zhi)定了最(zui)低限度的現行藥品(pin)生產(chan)質(zhi)量管理規范(cGMP),用(yong)于制(zhi)備供人類或動物使用(yong)的藥品(pin)。 FDA已在Title 21聯邦法規(21 CFR)中定義了這些要(yao)求。

  為了(le)總結這一(yi)挑(tiao)(tiao)戰(zhan),用(yong)這種方(fang)式說(shuo):“根據(ju)定義,噴射粉(fen)碎能(neng)夠制(zhi)造出(chu)細小的(de)(de)顆粒(li),潔凈室的(de)(de)設計目的(de)(de)是(shi)將游離顆粒(li)降低到一(yi)定的(de)(de)閾值(zhi)以下。將我們必須克服的(de)(de)兩(liang)項技術結合(he)起來(lai)確實存在挑(tiao)(tiao)戰(zhan)。“

  解決方案

  在應對這些挑(tiao)戰(zhan)時會遇到兩個關(guan)鍵(jian)障礙(ai):基(ji)礎(chu)設施(shi)和程序知識。在基(ji)礎(chu)設施(shi)部分,聘(pin)請了顧問并直接與(yu)其客戶交談,以了解可接受(shou)(shou)的閾值。 通過投資潔凈室(shi)和受(shou)(shou)控(kong)存(cun)儲區來(lai)實(shi)現其承諾,該區域(yu)符合以下要求:

  •cGMP套件是(shi)經過(guo)ISO控制認(ren)證(zheng)的環(huan)境。 ISO 8是(shi)100,000級認(ren)證(zheng)的新術語。 ISO8空氣(qi)質量認(ren)證(zheng)意味著空氣(qi)中最多可(ke)包含100,000個顆粒,每立方英尺≥0.5μm。

  •FDA檢查了(le)制造套件(jian)和流程(cheng)。

  •使用(yong)隔離器(qi)或便攜式手套箱包含(非強效(xiao))API產品(pin)。

  •每小時超(chao)過(guo)20 x的完整空氣交換(huan)/過(guo)濾(lv)。

  •控制溫度和濕(shi)度。

  •去(qu)離子水進(jin)行(xing)清(qing)潔。

  •氣流磨和錘磨機。

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