石英玻(bo)璃是由(you)二氧化(hua)硅單一(yi)組分(fen)(fen)構成(cheng)的特種(zhong)工(gong)業(ye)(ye)技術(shu)玻(bo)璃，由(you)于其具有(you)耐溫(wen)、耐絕大部分(fen)(fen)酸(suan)、低膨脹等(deng)特殊理化(hua)性能(neng)，被廣泛應用于半導體工(gong)業(ye)(ye)、光通訊(xun)、電光源(yuan)等(deng)高新技術(shu)領域。傳統的光學(xue)石英玻(bo)璃制(zhi)備工(gong)藝(yi)有(you)間(jian)接合成(cheng)法(fa)(fa)、溶膠-凝膠法(fa)(fa)、電熔法(fa)(fa)、氣(qi)煉法(fa)(fa)、化(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)沉積(ji)法(fa)(fa)、等(deng)離子化(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)沉積(ji)法(fa)(fa)等(deng)。

　　間接合成法

　　間接(jie)合(he)成法是相對于目前較(jiao)常見的四(si)種“直接(jie)”工藝(yi)技術而言(yan)的，其(qi)包括低密度(du)二氧化硅(gui)(gui)疏松(song)(song)體的沉積(ji)和(he)燒結兩個主要工序。即以(yi)含(han)硅(gui)(gui)化合(he)物為原料，采用低溫化學氣相沉積(ji)工藝(yi)沉積(ji)形成低密度(du)二氧化硅(gui)(gui)疏松(song)(song)體，其(qi)后燒結過程與摻雜、脫(tuo)水、脫(tuo)氣、致密化同時(shi)進行，直至達到玻璃化。

　　溶膠－凝膠法

　　溶膠(jiao)－凝膠(jiao)法制(zhi)備石(shi)英玻(bo)璃塊體時，其坯體易開裂，有機(ji)原料引入的殘余碳會使玻(bo)璃在熔制(zhi)的過程產生(sheng)黑斑和氣泡(pao)，而且制(zhi)備過程反(fan)應時間較(jiao)長，不(bu)利于工業上規模(mo)化生(sheng)產。

　　電熔法和氣煉法

　　電(dian)熔和氣(qi)煉工藝均以高純石英砂為(wei)原料，經過(guo)1800℃以上高溫熔制成石英玻璃。但制成的(de)石英玻璃純度低、紫外透過(guo)率差、氣(qi)泡雜點多，嚴重影響光學性能，難以滿足高端(duan)光電(dian)技術領域的(de)應用需求。

　　化學氣相沉積法

　　化學氣相(xiang)沉積法制備的合(he)成(cheng)石(shi)英玻(bo)璃金屬雜質含量(liang)低、遠紫外(wai)透過率高、光(guang)學均勻性高，但紅外(wai)光(guang)學性能較差。此類合(he)成(cheng)石(shi)英玻(bo)璃廣泛應(ying)用(yong)于(yu)航天、集成(cheng)電路、精密(mi)儀(yi)器(qi)和(he)激光(guang)核技術等(deng)領域。

　　等離子化學氣相沉積法

　　等(deng)離子化學氣相沉(chen)積法以高(gao)純四氯硅(gui)烷為原料，用高(gao)頻(pin)等(deng)離子體(ti)火(huo)焰(yan)代(dai)替氫氧火(huo)焰(yan)。該(gai)工(gong)藝制備的石英(ying)玻璃金屬雜質和羥基(ji)(ji)含(han)量低、紫外－紅外光譜(pu)透過(guo)性能優良(liang)、折射(she)率穩定(ding)、結構均勻性良(liang)好(hao)，且無氣泡和雜點，因此廣泛用作各類光學透鏡和高(gao)穩定(ding)性慣(guan)導器件的基(ji)(ji)材(cai)。

　　90年代至今，國家引進先進技術(shu)(shu)，加(jia)強自主創新，使原料和生產工(gong)藝都取(qu)得(de)了巨大進步，制備的石(shi)英(ying)(ying)產品(pin)(pin)質量(liang)也(ye)在不斷提高。中(zhong)低端石(shi)英(ying)(ying)制品(pin)(pin)已(yi)達到產業化，并可滿(man)足國內需(xu)求，但在突破制備高端石(shi)英(ying)(ying)制品(pin)(pin)的技術(shu)(shu)上(shang)還需(xu)不斷努力(li)。

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