高(gao)嶺土作為填料不僅可以提高(gao)塑(su)料制(zhi)品的(de)力學(xue)性(xing)能(neng)，而(er)且還可以賦予制(zhi)品一些特殊(shu)的(de)應用性(xing)能(neng)，例如(ru)：良好的(de)電(dian)絕緣性(xing)、膠(jiao)合強度、耐(nai)水性(xing)能(neng)等(deng)。改性(xing)后的(de)高(gao)嶺土作為填料所制(zhi)得(de)的(de)塑(su)料制(zhi)品，不僅表面光(guang)滑、而(er)且可減(jian)少熱(re)裂和收縮，具(ju)有利于拋(pao)光(guang)、提高(gao)加工尺寸的(de)精(jing)確度、耐(nai)化學(xue)腐蝕性(xing)等(deng)優(you)點。

(1)高(gao)嶺土(tu)粉晶樣(yang)(yang)品(pin)(pin)的制備(bei)①將(jiang)被測(ce)試高(gao)嶺土(tu)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)在瑪瑙研缽中(zhong)研成10pm左右的細粉末。②將(jiang)適量研磨好的細粉填入樣(yang)(yang)品(pin)(pin)板(ban)(ban)(ban)凹槽，并且用平(ping)整光(guang)滑(hua)的玻璃板(ban)(ban)(ban)將(jiang)其壓緊。③將(jiang)槽外或高(gao)出(chu)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)板(ban)(ban)(ban)面(mian)(mian)的多余粉末刮去，重(zhong)新將(jiang)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)壓平(ping)，使(shi)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)表(biao)面(mian)(mian)與樣(yang)(yang)品(pin)(pin)板(ban)(ban)(ban)面(mian)(mian)一(yi)樣(yang)(yang)平(ping)齊(qi)光(guang)滑(hua)。若是使(shi)用帶有窗口的樣(yang)(yang)品(pin)(pin)板(ban)(ban)(ban)，則(ze)把樣(yang)(yang)品(pin)(pin)板(ban)(ban)(ban)放在一(yi)個(ge)表(biao)面(mian)(mian)平(ping)整光(guang)滑(hua)的玻璃板(ban)(ban)(ban)上，將(jiang)粉末填入窗口內(nei)，搗(dao)實壓緊即成。在樣(yang)(yang)品(pin)(pin)測(ce)試時應使(shi)貼(tie)著玻璃板(ban)(ban)(ban)的一(yi)面(mian)(mian)對著人射X射線。

(2)測量(liang)方式(shi)和(he)實驗參數(shu)選(xuan)擇衍射儀(yi)測量(liang)方式(shi)有連(lian)續掃(sao)(sao)描(miao)(miao)和(he)步進掃(sao)(sao)描(miao)(miao)兩種方式(shi)。連(lian)續掃(sao)(sao)描(miao)(miao)是由脈沖平均電(dian)路(lu)混合成電(dian)流起伏，而后用長圖(tu)記(ji)錄(lu)儀(yi)描(miao)(miao)繪(hui)(hui)(hui)成相(xiang)對強度(du)隨(sui)扮(ban)變化(hua)的分(fen)布曲線，步進掃(sao)(sao)描(miao)(miao)是由定標器(qi)定時(shi)或定數(shu)測量(liang)并(bing)由數(shu)據處理(li)系(xi)統顯示或打印，或由繪(hui)(hui)(hui)圖(tu)儀(yi)描(miao)(miao)繪(hui)(hui)(hui)成強度(du)隨(sui)謀浠(xi)的分(fen)布曲線。

不論是(shi)哪一種(zhong)測(ce)量方式，在(zai)快速掃(sao)描(miao)的(de)(de)(de)(de)情況下都能相當迅(xun)速地給出(chu)全部衍射(she)圖，它(ta)適(shi)合物質的(de)(de)(de)(de)預檢，特別適(shi)合用于(yu)對高(gao)(gao)嶺(ling)土用途鑒定或(huo)定性(xing)估計。對衍射(she)圖局部做非(fei)常慢的(de)(de)(de)(de)掃(sao)描(miao)，適(shi)合于(yu)精(jing)細區(qu)分(fen)衍射(she)圖的(de)(de)(de)(de)細節和進行高(gao)(gao)嶺(ling)土生產線定量分(fen)析，以及精(jing)確的(de)(de)(de)(de)晶面間距測(ce)量、晶粒尺寸和點陣畸變(bian)的(de)(de)(de)(de)研究等。實驗(yan)參(can)數的(de)(de)(de)(de)選擇包括以下幾(ji)個(ge)方面。

①狹縫(feng)(feng)狹縫(feng)(feng)的(de)大(da)(da)小對衍(yan)射(she)強(qiang)(qiang)度和分辨(bian)率都有影(ying)響，大(da)(da)狹縫(feng)(feng)可得到較大(da)(da)的(de)衍(yan)射(she)強(qiang)(qiang)度，但降低分辨(bian)率，小狹縫(feng)(feng)能提(ti)(ti)高(gao)分辨(bian)率，但損失(shi)強(qiang)(qiang)度，一般如需(xu)要提(ti)(ti)高(gao)強(qiang)(qiang)度時宜(yi)選用大(da)(da)些的(de)狹縫(feng)(feng)，需(xu)要高(gao)分辨(bian)率時宜(yi)選用小些的(de)狹縫(feng)(feng)，尤其(qi)是接收狹縫(feng)(feng)對分辨(bian)率影(ying)響很大(da)(da)。

②量(liang)程量(liang)程是指記(ji)錄紙(zhi)滿(man)(man)刻度時(shi)的(de)(de)計(ji)數(率(lv))強(qiang)度。增大量(liang)程可(ke)(ke)表現為X射線記(ji)錄的(de)(de)衰減，不改變衍射峰(feng)(feng)的(de)(de)位置及寬度，并且使(shi)背景(jing)和峰(feng)(feng)形平滑，但卻能掩蓋弱(ruo)峰(feng)(feng)使(shi)分(fen)辨(bian)(bian)率(lv)降低，在一般分(fen)析測(ce)(ce)量(liang)中，量(liang)程選(xuan)(xuan)擇應適當。當測(ce)(ce)量(liang)結(jie)(jie)晶不良(liang)的(de)(de)物質(zhi)或主要想探(tan)測(ce)(ce)分(fen)辨(bian)(bian)弱(ruo)峰(feng)(feng)時(shi)，宜選(xuan)(xuan)用小量(liang)程。當測(ce)(ce)量(liang)結(jie)(jie)晶良(liang)好的(de)(de)物質(zhi)或主要想探(tan)測(ce)(ce)強(qiang)峰(feng)(feng)時(shi)，量(liang)程可(ke)(ke)以適當大些，但是以能使(shi)弱(ruo)峰(feng)(feng)顯(xian)示，強(qiang)峰(feng)(feng)不超出(chu)記(ji)錄紙(zhi)滿(man)(man)標(biao)為限(xian)。

③時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)常(chang)(chang)數(shu)和預置時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)連續(xu)掃描測量中采用(yong)時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)常(chang)(chang)數(shu)，它(ta)是指計(ji)數(shu)率(lv)(lv)儀(yi)(yi)中脈沖(chong)響(xiang)應(ying)的(de)快慢(man)程度(du)。時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)常(chang)(chang)數(shu)大，脈沖(chong)響(xiang)應(ying)慢(man)，對(dui)脈沖(chong)電流具有較大的(de)平整作用(yong)，不(bu)易(yi)(yi)(yi)辨(bian)(bian)別電流隨(sui)時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)變化(hua)的(de)細節(jie)，因而強度(du)線形(xing)相對(dui)光滑，峰(feng)(feng)形(xing)變寬，高度(du)下降(jiang)，峰(feng)(feng)值移向掃描方向，時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)常(chang)(chang)數(shu)過(guo)大，還會引起線形(xing)不(bu)對(dui)稱，使一條線形(xing)的(de)后半部(bu)分(fen)拉寬;反之，時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)常(chang)(chang)數(shu)小，能如實繪制(zhi)出計(ji)數(shu)脈沖(chong)到(dao)達(da)速度(du)的(de)統計(ji)變化(hua)，易(yi)(yi)(yi)于分(fen)辨(bian)(bian)出電流隨(sui)時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)變化(hua)的(de)細節(jie)，使弱峰(feng)(feng)易(yi)(yi)(yi)于分(fen)辨(bian)(bian)，衍射(she)線形(xing)和衍射(she)強度(du)更(geng)加真(zhen)實，計(ji)數(shu)率(lv)(lv)儀(yi)(yi)均(jun)配有多種可提供選(xuan)擇的(de)時(shi)(shi)間(jian)(jian)(jian)(jian)(jian)常(chang)(chang)數(shu)。

④掃(sao)(sao)(sao)描(miao)速(su)度和步(bu)寬(kuan)連(lian)續掃(sao)(sao)(sao)描(miao)中采用的(de)(de)掃(sao)(sao)(sao)描(miao)速(su)度是指計(ji)數器轉動(dong)的(de)(de)角(jiao)速(su)度。慢速(su)掃(sao)(sao)(sao)描(miao)可(ke)使計(ji)數器在某衍射角(jiao)度范圍內(nei)停留的(de)(de)時(shi)間更(geng)長(chang)，接(jie)收的(de)(de)脈沖數目更(geng)多，使衍射數據更(geng)加可(ke)靠。但需(xu)要(yao)(yao)花費較長(chang)的(de)(de)時(shi)間，對(dui)于精細(xi)的(de)(de)測量(liang)應采用慢速(su)掃(sao)(sao)(sao)描(miao)，在實際應用中可(ke)根(gen)據測量(liang)需(xu)要(yao)(yao)選用不同的(de)(de)掃(sao)(sao)(sao)描(miao)速(su)度。

步(bu)進掃(sao)描中用(yong)步(bu)寬來表示(shi)計數器每步(bu)掃(sao)描的角(jiao)度(du)，有多種(zhong)方式表示(shi)掃(sao)描速度(du)的快慢。

(3)樣品測量包括開機前的準(zhun)備(bei)和(he)檢查(將(jiang)制備(bei)好的試樣插入衍射儀樣品架(jia)，關閉(bi)好 防(fang)護罩)、開機操作和(he)停(ting)機。

(4)譜圖分析包(bao)括衍射(she)峰2θ位置的標定(ding)、衍射(she)強度(du)的測量及譜圖檢索(suo)等(deng)。

山東埃爾派粉體科技有限公司生產的高嶺土主要加工設備控制系統：
料倉和產品倉均有料位器，可實現整條生產線的自動控制
采(cai)用PLC控制(zhi)，燈光流程圖顯示運行和出錯(cuo)，清(qing)楚明了，便于操作，也可以(yi)采(cai)用計算機控制(zhi)，直至遠(yuan)程管理.

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